ASML技术高级副总裁：与Zeiss的合作开始开发5 nm分

他于6月27日报道说，ASML Technology高级副总裁Jos Benschop在接受Nikkei Asia采访时说，他已经开始与他的独家合作伙伴Zeiss开发5 nm分辨率的HyperNA光刻机器。作为参考，当前的5000 Twinscan 5000光刻系统使用NA（0.55NA）光学系统，分辨率为8 nm。高分辨率意味着高级流程公司可以减少展览的数量并提高其光刻模式的质量。 Jos Benschop表示，ASML尚未确定Hyper NA光刻机器推出的客观日期，但是项目开发的目的是将IT Home（NA）的注释（NA）提高到0.7或更高。 8 nm的分辨率意味着，HyperNA系统可以在2035年及以后的阶段满足工业需求。关于最近实施的模式设备的部署，EASML Jecutives表示，这些机器将在以后使用，因为该行业需要证明，验证和构建相应的生态系统。预计在过去十年甚至1930年代初期，这台0.55光刻机器有望满足行业的需求。